互补金属氧化物半导体图像传感器噪声来源
字数 1534 2025-12-06 04:34:06
互补金属氧化物半导体图像传感器噪声来源
互补金属氧化物半导体图像传感器的噪声是影响其成像质量(尤其是弱光性能)的关键因素。其噪声来源复杂,可以系统地、从底层物理机制到宏观表现进行分解。
第一步:理解噪声的基本概念与分类
在电子学中,噪声是指信号中不期望的、随机的扰动。对于CMOS图像传感器,噪声会降低图像的信噪比,导致画面出现颗粒感、色彩失真或细节丢失。CMOS图像传感器的噪声通常分为两类:
- 时空固定噪声:其模式(如亮点、暗条纹)在时间和空间上相对固定,不随拍摄帧数大幅随机变化,可通过校准部分消除。
- 随机噪声:其大小和位置在时间和空间上随机出现,无法通过单次校准完全消除,是制约传感器极限性能的主要因素。
第二步:深入解析主要随机噪声来源
随机噪声来源于传感器信号链的各个环节,主要包含以下几种:
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散粒噪声:
- 根源:光的粒子性(光子)和电子的粒子性。光子以随机的时间间隔到达像素,光电转换产生的电子数也因此存在统计起伏。同样,暗电流的产生也是随机过程。
- 关键特性:噪声的大小(标准差)等于信号(电子数)的平方根。例如,若一个像素收集了10000个电子,其散粒噪声即为100个电子。它存在于光信号本身(光子散粒噪声)和暗电流(暗电流散粒噪声)中,是物理学原理决定的基本极限,无法被完全消除。
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读出噪声:
- 根源:信号在像素内部及读出电路中被处理和放大时,由电路元器件(主要是MOSFET)引入的随机电噪声。主要包括:
- 热噪声:由载流子的热运动引起,存在于所有有电阻的部件中,与绝对温度和电阻带宽成正比。
- 1/f噪声(闪烁噪声):在低频段显著,与半导体界面的缺陷和陷阱相关,其功率谱密度与频率成反比。
- 关键特性:通常以“电子数”衡量。现代CMOS传感器的读出噪声可以做到很低(如1-5个电子)。它在信号很弱时(如暗光环境)影响巨大,因为弱信号可能被淹没在读出噪声中。
- 根源:信号在像素内部及读出电路中被处理和放大时,由电路元器件(主要是MOSFET)引入的随机电噪声。主要包括:
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复位噪声:
- 根源:在像素感光节点(浮动扩散区)每次复位到一个参考电压时,由于复位开关MOSFET沟道电阻的热噪声,会导致每次复位后的初始电压存在微小随机偏差。
- 关键特性:传统上这是一种固定大小的噪声(与电容值有关),但可以通过相关双采样技术几乎完全消除。CDS通过读取复位后的电平与积分后的信号电平并求差,来抵消复位噪声和部分1/f噪声。
第三步:深入解析主要固定图案噪声来源
这类噪声在图像中呈现固定的图案,可以通过图像处理进行校正。
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暗电流非均匀性:
- 根源:由于半导体制造工艺的微小差异,每个像素在完全无光条件下产生的暗电流大小不同。这导致在长时间曝光时,画面会出现固定的、随机的亮点(热像素)或明暗不均的图案。
- 缓解:通过传感器标定,拍摄一张“暗场”图像(盖上镜头盖拍摄),并从实际图像中减去,可显著改善。
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像素响应非均匀性:
- 根源:各像素的光电转换效率(将光子转换为电子的能力)因微观结构差异(如光电二极管掺杂浓度、微透镜对准、滤色片厚度等)而不完全相同。
- 关键特性:在均匀光照下,输出信号会存在固定的、像素间的响应差异。需要通过均匀光源下的标定来校正。
第四步:噪声的传递与综合影响
在CMOS图像传感器的信号链中,上述噪声会逐级叠加。总噪声通常是各独立噪声源平方和的平方根。对于一个像素的最终输出,其总噪声方差可近似表示为:
总噪声^2 = 散粒噪声^2 + 读出噪声^2 + 固定噪声(经校正后残余)^2
在极低照度下,读出噪声占主导;在较高照度下,光子散粒噪声占主导。设计高性能CMOS图像传感器的核心挑战之一,就是在提升灵敏度(收集更多光子)的同时,尽可能降低读出电路引入的噪声,使传感器性能逼近散粒噪声决定的物理极限。